Glow Discharge Spektrometresi, malzemenin numune yüzeyinden argon iyonu akışıyla düzgün bir şekilde sputter edildiği düşük basınçlı, termal olmayan bir işlem kullanır. Sputter edilen malzeme daha sonra atomize edilir ve numune yüzeyinden uzakta, düşük basınçlı bir plazma boşalmasında uyarılır. GDS850, laboratuvarınızın hem proses kontrolü hem de araştırma / geliştirme araştırmalarındaki performansını artırmak için bu teknolojiye odaklanır. Kaplama analizi ve yüzey işlemleri için yüksek doğrulukta malzeme analizinin yanı sıra kompozit derinlik profili sunar. Bu cihaz 120 ile 800 nm arasında bir spektral aralık sunar ve 58 kanala kadar yapılandırılabilir.